Mgr. Daniel Franta, Ph.D.
výzkumný pracovník II – Optika tenkých vrstev a povrchů pevných látek
kancelář: pav. 07/02012
Kotlářská 267/2
611 37 Brno
telefon: | 549 49 3836 |
---|---|
e‑mail: |
sociální a akademické sítě: |
---|
Počet publikací: 215
2014
-
Antireflexní vrstva (Al2O3/MgF2) pro hlubokou ultrafialovou (DUV) oblast spektra na vlnové délce 266nm
Rok: 2014
-
Antireflexní vrstva (SiO2/Al2O3/MgF2) pro dalekou ultrafialovou (FUV, VUV) oblast spektra na vlnové délce 193nm
Rok: 2014
-
Antireflexní vrstva z materiálů Al2O3/SiO2 pro hlubokou ultrafialovou (DUV) oblast spektra na vlnové délce 266nm pro úhel dopadu 45°
Rok: 2014
-
Antireflexní vrstva z materiálů HfO2/SiO2 pro hlubokou ultrafialovou (DUV) oblast spektra na vlnové délce 266nm
Rok: 2014
-
Assessment of non-uniform thin films using spectroscopic ellipsometry and imaging spectroscopic reflectometry
Thin Solid Films, rok: 2014, ročník: 571, vydání: november, DOI
-
Broadening of dielectric response and sum rule conservation
Thin Solid Films, rok: 2014, ročník: 571, vydání: November, DOI
-
Dispersion model of two-phonon absorption: application to c-Si
OPTICAL MATERIALS EXPRESS, rok: 2014, ročník: 4, vydání: 8, DOI
-
Improved combination of scalar diffraction theory and Rayleigh-Rice theory and its application to spectroscopic ellipsometry of randomly rough surfaces
Thin Solid Films, rok: 2014, ročník: 571, vydání: November, DOI
-
Measurement of thickness distribution, optical constants, and roughness parameters of rough nonuniform ZnSe thin films
Applied Optics, rok: 2014, ročník: 53, vydání: 25, DOI
-
Utilization of the sum rule for construction of advanced dispersion model of crystalline silicon containing interstitial oxygen
Thin Solid Films, rok: 2014, ročník: 571, vydání: november, DOI