Low temperature temporal and spatial atomic layer deposition of TiO2 films

• Autoři: AGHAEE Morteza; MAYDANNIK Philipp; JOHANSSON Petri; KUUSIPALO Jurkka; CREATORE Mariadriana; HOMOLA Tomáš; CAMERON David Campbell
• Rok publikování: 2015
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Journal of Vacuum Science & Technology A
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• www: http://scitation.aip.org/content/avs/journal/jvsta/33/4/10.1116/1.4922588
• Doi: http://dx.doi.org/10.1116/1.4922588
• Obor: Fyzika pevných látek a magnetismus
• Klíčová slova: ALD
• Popis: Titanium dioxide films were grown by atomic layer deposition (ALD) using titanium tetraisopropoxide as a titanium precursor and water, ozone, or oxygen plasma as coreactants.

Související projekty

• CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
• Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy