Informace o publikaci

Three-dimensional Ge/SiGe multiple quantum wells deposited on Si(001) and Si(111) patterned substrates

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele
Název česky 3D Ge/SiGe mnohonásobné kvantové jámy deponované na Si(001) a Si(111) vzorkované substráty
Autoři

ISA Fabio PEZZOLI Fabio ISELLA G. MEDUŇA Mojmír FALUB C.V. MÜLLER E. KREILIGER Thomas TABOADA A. G. VON KAENEL Hans MIGLIO Leo

Rok publikování 2015
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Semiconductor Science and Technology
Fakulta / Pracoviště MU

Středoevropský technologický institut

Citace
Doi http://dx.doi.org/10.1088/0268-1242/30/10/105001
Obor Fyzika pevných látek a magnetismus
Klíčová slova multiple quantum wells; silicon germanium; photoluminescence; epitaxy; crystal quality
Popis V této práci prezentujeme 3D heteropřechody ukazující, že fotoluminescence z bezdefektních Ge/SiGe mnohonásobných kvantových jam (MQW) mikrokrystalů pěstovaných na hluboce vzorkovaných Si(001) a Si(111) substrátech vykazují podobné radiační intenzity a analogický spektrální tvar.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info