Informace o publikaci
GROWTH OF SILICON NANOWIRES BY THERMAL ANNEALING OF THICK GOLD CATALYTIC LAYER ON SILICON SUBSTRATE UNDER DIFFERENT ATMOSPHERES
| Název česky | Růst křemíkových nanodrátků termickým žíháním katalytické vrstvy zlata v různých atmosférách |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2015 |
| Druh | Článek ve sborníku |
| Konference | NANOCON 2015: 7TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON NANOMATERIALS - RESEARCH & APPLICATION |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| www | konferenční stránka |
| Obor | Teoretická fyzika |
| Klíčová slova | Nanowires; Silicon; Gold; Eutectics; Surface processes |
| Popis | Křemíkové nanodrátky rostly na Si substrátu termíckým žíháním katalytické vrstvy zlata. 100 nm tlustá vrstva zlata na Si připravená magnetronovým naprašováním byla žíhána za teploty 1000 C po dobu 60 minut v argonové a vodíkové atmosféře při tlaku 8 kPa. Bylo zjištěno, že ve vodíkové atmosféře lze pozorovat růst nanodrátků zatímco v argonů byl růst jen sporadický. Morfologie a složení vrstvy bylo zkoumáno metodami AFM a LDI TOF spektrospkopií. Struktura nanodrátků byla zkoumána pomocí metod SEM a EDX spektroskopií. |
| Související projekty: |