Preparation of (001) preferentially oriented titanium thin films by ion-beam sputtering deposition on thermal silicon dioxide

• Autoři: GABLECH Imrich; SVATOŠ Vojtěch; CAHA Ondřej; HRABOVSKY Milos; PRASEK Jan; HUBÁLEK Jaromír; ŠIKOLA Tomáš
• Rok publikování: 2016
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Journal of materials science
• Fakulta / Pracoviště MU: Středoevropský technologický institut
• www: http://link.springer.com/article/10.1007%2Fs10853-015-9648-y
• Doi: http://dx.doi.org/10.1007/s10853-015-9648-y
• Obor: Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
• Klíčová slova: titanium; sputtering; x-ray diffraction
• Popis: We propose the ion-beam sputtering deposition providing Ti thin films of desired crystallographic orientation and smooth surface morphology not obtainable with conventional deposition techniques such as magnetron sputtering and vacuum evaporation.

Související projekty

• CEITEC - středoevropský technologický institut
• CEITEC - open access