Influence of discharge and substrate parameters on PECVD of TEOS/argon mixtures

• Název česky: Vliv výboje a parametrů substrátu na PECVD ve směsi TEOS/argon
• Autoři: ZAJÍČKOVÁ Lenka; BURŠÍKOVÁ Vilma; JANČA Jan
• Rok publikování: 1997
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: ICPIG XXIII
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Popis: Influence of discharge and substrate parameters on PECVD of TEOS/argon mixtures

Související projekty

• Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek