Model of reactive magnetron sputtering process with non-uniform discharge current density

• Název česky: Model reaktivního magnetronového naprašování s nerovnoměrnou proudovou hustotou
• Autoři: VAŠINA Petr; HYTKOVÁ Tereza; ELIÁŠ Marek
• Rok publikování: 2007
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Proceeding of XXVIII International Conference on Phenomena in Ionized Gases
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: magnetron sputtering; reactive; Berg
• Popis: Model reaktivního magnetronového naprašování s nerovnoměrnou proudovou hustotou, sborník

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium kinetických procesů v dohasínajícím dusíkovém plazmatu s ohledem na jejich využití v chemické analýze