Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process

• Název česky: Měření základní a vyšších harmonických frekvencí za účelem kontroly vf. reaktivního naprašování
• Autoři: DVOŘÁK Pavel; VAŠINA Petr
• Rok publikování: 2008
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Programme and Abstract Book of the 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron
• Popis: Byla navržena nová metoda kontroly vysokofrekvenčního reaktivního magnetronového naprašování založená na měření frekvenčního spektra katodového napětí nebo napětí měřeného na nekompenzované sondě vsunuté do plazmatu. Amplitudy některých harmonických frekvencí byly velice citlivé na sledovaný přeskok mezi kovovým a otráveným režimem magnetronového naprašování.

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev