Ionization Processes and Plasma Chemistry in Pulsed RF Glow Discharge TOF Mass Spectroscopy for Thin Film Depth Profile Analyses

• Název česky: Ionizační procesy a plazmová chemie v pulzním RF výboji TOF hmotnostního spektrometru užitá pro hloubkové profily tenkých vrstev
• Autoři: GROZA A.; SURMEIAN A.; DIPLASU C.; TEMPEZ A.; CHAPON P.; LOBO L.; BORDEL L.; SCHMIDTOVÁ Tereza; VAŠINA Petr; BELENGUER P.; NELIS T.; GUILLOT P.; TUCCITO N.; LICCIARDELLO A.
• Rok publikování: 2008
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Book of Abstracts, Second Central European Symposium on Plasma Chemistry
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: depth profiles; TOF spectrometry
• Popis: Ionizační procesy a plazmová chemie v pulzním RF výboji TOF hmotnostního spektrometru užitá pro hloubkové profily tenkých vrstev, sborník

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek