Higher harmonic frequencies of discharge voltages as extremely sensitive marker of state of RF reactive sputtering deposition process

• Název česky: Vyssi harmonicke frekvence jako ukazatel stavu reaktivniho magnetronoveho depozicniho procesu
• Autoři: VAŠINA Petr; DVOŘÁK Pavel
• Rok publikování: 2009
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Book of Contributed Papers of 17th Symposium on Applications of Plasma Processes
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: reactive sputtering
• Popis: Vyssi harmonicke frekvence jako ukazatel stavu reaktivniho magnetronoveho depozicniho procesu, konferenční sborník

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev