Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control the RF sputtering deposition process

• Název česky: Analýza harmonických složek napětí v plazmatu jako nástroj kontrolu vf. naprašování
• Autoři: VAŠINA Petr; DVOŘÁK Pavel
• Rok publikování: 2009
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Europhysics Letters
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron
• Popis: Popis velmi citlivé metody monitorování stavu vysokofrekvenčního reaktivního magnetronového naprašování pomocí sledování amplitud vyšších harmonických frekvencí generovaných výbojem.

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev