Towards limits of x-ray specular reflectivity

• Název česky: Limity metody rtg reflexe
• Autoři: JÍŠA Jan; MEDUŇA Mojmír
• Rok publikování: 2009
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Materials Structure in Chemistry, Biology, Physics and Technology
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika pevných látek a magnetismus
• Klíčová slova: x-ray reflectivity; fourier transform; photoresist
• Popis: Použitím difraktometru s vysokým rozlišením jsme úspěšně naměřili tloušťky fotoresistů více než 1um tlusté s rtg zářením. Tloušťka získaná z rtg odrazivosti dobře odpovídá tloušťce získané z optické odrazivosti.

Související projekty

• Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur
• Nukleace a růst kyslíkových precipiátů v křemíku