Behaviour of hybrid PVD-PECVD process of Ti sputtering in argon and acetylene atmosphere

• Název česky: Chování hybridního PVD-PECVD procesu Ti rozprašování v argonové a acetylenová atmosféře
• Autoři: SCHMIDTOVÁ Tereza; VAŠINA Petr
• Rok publikování: 2010
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Potential and Applications of Nanotretment of Medical Surface
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: magnetron sputtering; modelling; hybrid process; hysteresis
• Popis: Hybridní naprašovací process PVD-PECVD byl studován pro případ rozprašování titanového terče v atmosféře argon, acetylen. Hybridní PVD-PECVD proces kombinuje aspekty obvyklého rozprašování kovového terče s plynným uhlovodíkem, který je zdrojem uhlíku. Zde prezentujeme a diskutujeme výrazné rozdíly mezi chováním obvyklého reaktivního magnetronového naprašování s takovýmto hybridním procesem.

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
• Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace