Behaviour of Hybrid PVD-PECVD in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering.

• Název česky: Chování hybridního PVD-PECVD procesu ve srovnání s tradičním reaktivním magnetronovým naprašováním.
• Autoři: SCHMIDTOVÁ Tereza; VAŠINA Petr
• Rok publikování: 2010
• Druh: Konferenční abstrakty
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Popis: Behaviour of Hybrid PVD-PECVD Process in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering. Modelling of hybrid PVD-PECVd process.

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
• Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace