Monitoring of PVD, PECVD and etching plasmas using Fourier components of RF voltage

• Název česky: Monitoruvání PVD, PECVD a leptacích plazmových procesů pomocí Fourierových komponent vf. napětí
• Autoři: DVOŘÁK Pavel; VAŠINA Petr; BURŠÍKOVÁ Vilma; ŽEMLIČKA Radek
• Rok publikování: 2010
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Plasma Physics and Controlled Fusion
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• www: https://iopscience.iop.org/article/10.1088/0741-3335/52/12/124011
• Doi: http://dx.doi.org/10.1088/0741-3335/52/12/124011
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: plasma; higher harmonic frequencies; capacitively coupled discharge; reactive magnetron sputtering; DLC
• Popis: Fourierovy složky výbojového napětí a napětí nekompenzované sondy byly použity k monitorování dvou různých depozičních procesů. Byly testovány fyzikální důvody reakce Fourierových složek na přítomnost vrstvy.

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev