Evolution of discharge current in high power impulse magnetron sputtering

• Autoři: FEKETE Matej; VAŠINA Petr; KLEIN Peter
• Rok publikování: 2013
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: PAPN 2013: Book of extended abstracts
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: HiPIMS; discharge current; magnetron sputtering; optical emission spectroscopy
• Popis: High power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) is nowadays often discussed topic. Physics of HiPIMS discharge is not completely understand yet. Even very basic characteristics of HiPIMS discharge like time resolved dependence of the cathode voltage and the discharge current are still discussed and interpreted. This research shows different regimes of time evolution of the discharge current depending on applied target voltage. Possible interpretation is presented.

Související projekty

• CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
• Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev