Informace o publikaci

Tetrakis(trimethylsilyloxy)silane for nanostructured SiO2-like films deposited by PECVD at atmospheric pressure

Autoři

SCHÄFER Jan HNILICA Jaroslav ŠPERKA Jiří QUADE Antje KUDRLE Vít FOEST Rüdiger VODÁK Jiří ZAJÍČKOVÁ Lenka

Rok publikování 2016
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Surface and Coatings Technology
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Doi http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2015.09.047
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova Tetrakis(trimethylsilyloxy)silane; Tetrakis(trimethylsiloxy)silane; Plasma jet; Silicon dioxide
Přiložené soubory
Popis We performed the thin films deposition using atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition (AP-PECVD) by means of a radiofrequency and a microwave plasma jets operating with mixtures of argon and tetrakis(trimethylsilyloxy)silane (TTMS).
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info