Prototyp zařízení pro povrchovou úpravu práškových materiálů na bázi rotačního klouzavého výboje

• Autoři: SŤAHEL Pavel
• Rok publikování: 2016
• Druh: Prototyp, funkční vzorek
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Popis: Jedná se o funkční plazmový zdroj v laboratorním provedení. Konstrukce vychází z principu rotačního klouzavého výboje dle patentu PV 2015-310, zhotovený ve spolupráci s f Advecoplas s.r.o. jako jeden kus k ověření vlastností konstrukce v praktických aplikacích úpravy práškových materiálů. Příkon 390W a operační frekvence 50Hz, výtěžnost až 2kg/min. Výsledek byl ověřen pro zavedení do výroby.

Související projekty

• Tvorba nano-vrstev a nano-povlaků na textiliích s využitím plazmových povrchových úprav za atmosférického tlaku
• CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
• Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy