Informace o publikaci
Antireflexní vrstva na substrátu ve specifikaci T>=99,8 %@ 248 nm a T>=98,5 % @ 213 nm.
| Autoři | |
|---|---|
| Rok publikování | 2020 |
| Druh | Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek) |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Popis | Antireflexní vrstvy vyrobené kombinací vysokoindexového materiálu Al2O3 a nízkoindexového materiálu SiO2 splňující následující specifikace v hluboké ultrafialové oblasti, vrstva 1: T>=99,8 % @248 nm, vrstva 2: T>=98,5 % @213 nm |
| Související projekty: |