Plazmová depozice ochranných vrstev na bázi uhlíku

• Autoři: DVOŘÁK Pavel; ZAJÍČKOVÁ Lenka; BURŠÍKOVÁ Vilma
• Rok publikování: 1999
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Materiálové vědy na prahu 3. milénia
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: PECVD; carbon; DLC; DLC:Si
• Popis: Z plazmatu kapacitně vázaného vf. výboje jsme deponovali tenké vrstvy na bázi uhlíku. Srovnávali jsme optické vlastnosti vrstev deponovaných ze směsi metanu a argonu s vrstvami deponovanými ze směsi HMDSO + metan a HMDSO + metan + Ar.

Související projekty

• Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
• Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy