Informace o publikaci
Study of thickness reduction of a-C:H thin film under UV light irradiation
| Název česky | Studium redukce tlouštky amorfní uhlíkové tenké vrstvy vlivem UV záření |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2007 |
| Druh | Článek ve sborníku |
| Konference | Proceedings of ICPIG XXVIII Conference |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
| Klíčová slova | Carbon; Oxidation; Optical Properties |
| Popis | V příspěvku je prezentováno studium redukce tlouštky amorfní uhlíkové tenké vrstvy vlivem UV záření. Optické parametry vrstvy jsou určovány pomocí spektroskopické elipsometrie a plošného měření reflektance. Byla pozorována lineární závislost v poklesu tlouštky vrstvy. Rychlost je poklesu 10,1 nm/h. Avšak pokud byla tlouštka vrstvy menší než cca 14 nm, rychlost poklesu tlouštky vrstvy se postupně zmenšovala. Měření plošné reflektance, spočívající v naměření odrazivosti v mnoha bodech na povrchu vzorku, se využilo ke stanovení rozložení tlouštky. Tato metoda je velmi citlivá k malým změnám tlouštky. |
| Související projekty: |