Plasma enhanced CVD of thin films using hexamethyldisiloxane and octamethyltetrasiloxane monomers

Název česky Plazmochemická depozice vrstev z hexametyldisiloxanu a oktametyltetrasiloxanu
Autoři ZAJÍČKOVÁ Lenka — KUČEROVÁ Zuzana — FRANTA Daniel BURŠÍKOVÁ Vilma BURŠÍK Jiří SŤAHEL Pavel — KLAPETEK Petr
Druh Článek ve sborníku
Citace ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Zuzana KUČEROVÁ, Daniel FRANTA, Vilma BURŠÍKOVÁ, Jiří BURŠÍK, Pavel SŤAHEL a Petr KLAPETEK. Plasma enhanced CVD of thin films using hexamethyldisiloxane and octamethyltetrasiloxane monomers. In 18th International Symposium on Plasma Chemistry. Kyoto: International Plasma Chemistry Society, 2007. s. 459.
Originální jazyk angličtina
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova PECVD; HMDSO; OMCTS

Siloxanové polymery

Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info