Structure and properties of DLC/SiOx films deposited in CW and pulsed plasma

• Název česky: Struktura a vlastnosti DLC/SiOx vrstev připravených v CW a pulzním plazmatu
• Autoři: GRANIER A.; BEGOU T.; DUQUENNE C.; DJOUADI M.A.; FENG X.; BURŠÍKOVÁ Vilma; ZAJÍČKOVÁ Lenka
• Rok publikování: 2007
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: 18th International Symposium on Plasma Chemistry, Abstracts and Full-Papers CD
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika pevných látek a magnetismus
• Klíčová slova: DLC;PECVD;HMDSO;mechanical properties
• Popis: Struktura a vlastnosti DLC/SiOx vrstev připravených v CW a pulzním plazmatu

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Víceúrovňové studium vztahů mezi mechanickými a mikrostrukturními charakteristikami materiálů
• Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie