Role of Neutral Gas Temperature on Hysteresis Behaviour of Reactive Sputtering Deposition Process

• Název česky: Vliv teploty neutralniho plynu na hysterezni chovani reaktivniho magnetronoveho naprasovani
• Autoři: VAŠINA Petr; HYTKOVÁ Tereza; ELIÁŠ Marek
• Rok publikování: 2008
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Programme and Abstract Book of 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology, Prague, Czech Republic, 16.-19.June 2008
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: hysteresis; reactive sputtering
• Popis: Teoretická studie vlivu teploty neutrálního plynu na chování reaktivního magnetronového naprašování

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev