Informace o publikaci

Influence of N2 and CH4 on deposition rate of boron based thin films prepared by magnetron sputtering

Název česky Vliv N2 a CH4 na depozicní rychlos borových vrstev připravených magnetronovým naprašováním
Autoři

ELIÁŠ Marek SOUČEK Pavel VAŠINA Petr

Rok publikování 2008
Druh Článek ve sborníku
Konference Book of Extended Abstracts of 2nd Central European Symposium on Plasma Chemistry
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova hybrid deposition process; hysteresis
Popis Vliv N2 a CH4 na depozicní rychlos borových vrstev připravených magnetronovým naprašováním, sborník
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info