Adhesion of Rhodococcus sp. S3E2 and Rhodococcus sp. S3E3 to plasma prepared Teflon-like and organosilicon surfaces

• Název česky: Adheze Rhodococcus SP.S3E2 and Rhodococcus SP.S3E3 k plazmatem připravenému teflonu podobnému povrchu a organosilikonovým povrchům
• Autoři: LEHOCKÝ Marian; SŤAHEL Pavel; KOUTNÝ Marek; ČECH Jan; INSTITORIS Jakub; MRÁČEK Aleš
• Rok publikování: 2008
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Journal of Materials Processing Technology
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: Rhodococcus; Plasma deposition; Cell adhesion; Barrier discharge; Thin films
• Popis: Studium adheze Rhodococcus SP.S3E2 and Rhodococcus SP.S3E3 k hydrofobním teflonu podobným vrstvám a organosilikonovým vrstvám deponovaným na papír.

Související projekty

• Plazmochemická modifikace přírodních polymerů na bázi celulózy v povrchovém nebo koplanárním bariérovém výboji za atmosférického tlaku
• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek