Modeling of reactive magnetron sputtering deposition process - different target utilization, situation when O2 and H2 are added simultaneously

• Název česky: Modelování magnetronového naprašování - různé využití terče, situace s dvěma reaktivními plyny
• Autoři: VAŠINA Petr; SCHMIDTOVÁ Tereza
• Rok publikování: 2009
• Druh: Konferenční abstrakty
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Popis: Modelování magnetronového naprašování - různé využití terče, situace s dvěma reaktivními plyny, sborník

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev