prof. RNDr. Ivan Ohlídal, DrSc.
vedoucí pracoviště – Optika tenkých vrstev a povrchů pevných látek
kancelář: pav. 06/01031
Kotlářská 267/2
611 37 Brno
telefon: | 549 49 6244 |
---|---|
e‑mail: |
sociální a akademické sítě: |
---|
Počet publikací: 199
2011
-
Ellipsometric characterisation of thin films non-uniform in thickness
Thin Solid Films, rok: 2011, ročník: 519, vydání: 9, DOI
-
Measurement of the thickness distribution and optical constants of non-uniform thin films
Measurement Science and Technology, rok: 2011, ročník: 22, vydání: 8, DOI
-
Optical characterisation of SiOxCyHz thin films non-uniform in thickness using spectroscopic ellipsometry, spectroscopic reflectometry and spectroscopic imaging reflectometry
Thin Solid Films, rok: 2011, ročník: 519, vydání: 9, DOI
-
Optical characterization of HfO2 thin films
Thin Solid Films, rok: 2011, ročník: 519, vydání: 18, DOI
-
Variable-angle spectroscopic ellipsometry of considerably non-uniform thin films
Journal of Optics, rok: 2011, ročník: 13, vydání: 8, DOI
2010
-
Development of transparent protective coatings on polycarbonate substrates using PECVD
Rok: 2010, druh: Konferenční abstrakty
2009
-
Application of spectroscopic imaging reflectometry to analysis of area non-uniformity in diamond-like carbon films
Diamond and Related Materials, rok: 2009, ročník: 18, vydání: 2-3
-
Combined method of spectroscopic ellipsometry and photometry as an efficient tool for the optical characterisation of chalcogenide thin films
Journal of Optoelectronics and Advanced Materials, rok: 2009, ročník: 11, vydání: 12
-
Characterization of non-uniform diamond-like carbon films by spectroscopic ellipsometry
Diamond and Related Materials, rok: 2009, ročník: 18, vydání: 2-3, DOI
-
Influence of Cross-Correlation of Rough Boundaries on Reflectance of Thin Films on GaAs and Si Substrates
PHYSICS OF SEMICONDUCTORS, rok: 2009