Modelling of Reactive Magnetron Sputtering with Focus on Changes in Target Utilization

• Autoři: SCHMIDTOVÁ Tereza; VAŠINA Petr
• Rok publikování: 2012
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Chemické listy
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: reactive magnetron sputtering; modelling; target utilization
• Popis: The paper deals with modelling of reactive magnetron sputtering of titanium with focus on changes in target utilization.

Související projekty

• Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
• CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
• Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev