Informace o publikaci
PECVD of nanostructured SiO2 in a modulated microwave plasma jet at atmospheric pressure
| Autoři | |
|---|---|
| Rok publikování | 2013 |
| Druh | Článek v odborném periodiku |
| Časopis / Zdroj | J. Phys. D: Appl. Phys. |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| www | http://iopscience.iop.org/0022-3727/46/33/335202/ |
| Doi | http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/46/33/335202 |
| Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
| Klíčová slova | PECVD; modulated; microwave; plasma jet; atmospheric pressure |
| Přiložené soubory | |
| Popis | We performed the thin films deposition using atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition (AP-PECVD) by means of a microwave plasma jet operating with mixtures of argon and tetrakis(trimethylsilyloxy)silane (TTMS). |
| Související projekty: |