Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition of Thin Films from Tetraethoxysilane and Methanol: Optical Properties and XPS Analyses

• Autoři: ZAJÍČKOVÁ Lenka; OHLÍDAL Ivan; JANČA Jan
• Rok publikování: 1996
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Thin Solid Films
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: PECVD; TEOS

Související projekty

• Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek