Hybrid PVD-PECVD Process and Its Application for Carbon Ritch Nanocomposite Thin Film Deposition

• Autoři: VAŠINA Petr; SCHMIDTOVÁ Tereza; SOUČEK Pavel; BURŠÍKOVÁ Vilma
• Rok publikování: 2012
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Vrstvy a povlaky 2010: Zborník prednášok
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: hybrid PVD-PECVD; magnetron sputtering
• Popis: This paper dsiscusses the tybrid PVD-PECVD process and its application for carbon ritch nanocomposite thin film deposition

Související projekty

• CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
• Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev