Informace o publikaci
Electrical and dielectrical properties of SiOxHyCz thin films prepared by PECVD
| Název česky | Elektrické a dielektrické vlastnosti tenkých vrstev SiOxHyCz připravených PECVD |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2005 |
| Druh | Článek ve sborníku |
| Konference | Juniormat 05 |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
| Klíčová slova | Dielectrical properties; Frenkel-Poole conduction |
| Popis | Tenké vrstvy SiOxHyCz připravené plazmochemickou depozicí o tloušťce 100 - 500 nm vykazují Frenkel-Poole efekt. Velikost Frenkel-Poolova koeficientu roste s depoziční dobou. |
| Související projekty: |