Informace o publikaci
Optical characterization of non-stoichiometric silicon nitride films
| Název česky | Optická charakterizace nestechiometrických vrstev nitridu křemíku |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2008 |
| Druh | Článek v odborném periodiku |
| Časopis / Zdroj | physica status solidi (c) |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Optika, masery a lasery |
| Klíčová slova | ellipsometry; spectrophotometry; silicon nitride; stoichiometry; optical constants |
| Popis | Charakterizace nestechiometrických vrstev nitridu křemíku připravených metodou PECVD na křemíkové monokrystalické substráty jsou provedeny pomocí víceúhlové spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie a Rutherfordova zpětného rozptylu (RBS). Optická charakterizace zaměstnává disperzního modelu založeného na parametrizaci hustoty elektronových stavů z valenčního a vodivostního pásu. Tenké overlayery na horní hranici vrstev jsou vzaty v úvahu. Jsou určeny hodnoty rozptylu parametrů filmů SiNx a tloušťky těchto filmů a overlayerů. Poměry Si a N atomových frakcí jednotlivých vrstev jsou hodnoceny pomocí RBS. Výsledky z optické metody a RBS jsou korelovány. |
| Související projekty: |