Mgr. Daniel Franta, Ph.D.

Životopis

Identifikace osoby

• Mgr. Daniel Franta, Ph.D., narozen 14.2.1970

Pracoviště

• PřF MU, Ústav fyzikální elektroniky
  Kotlářská 2, 611 37 Brno

Funkce na pracovišti

• vědecký pracovník

Vzdělání a akademická kvalifikace

• 2000: Ph.D. v oboru Vlnová a částicová optika na Masarykově univerzitě, téma "Interakce světla s neideáními vrstevnatými systémy"
• 1994: Mgr. v oboru Odborná fyzika na Masarykově univerzitě, téma "Rozptyl světla vrstevnatými systémy s náhodně drsnými rozhraními"

Přehled zaměstnání

• od roku 1997: Masarykova univerzita, vědecký pracovník

Akademické stáže

• 2008: Institut des Materiaux Jean Rouxel, Univesity of Nantes, France (7 dní)
• 2003: Institute of Semiconductor Physics, Johannes Kepler University, Linz, Austria (10 dní)
• 2002: Laboratoire de Magnétisme et d'Optique, Université de Versailles Saint-Quentin-en-Yvelines, Versailles, France (3 měsíce)
• 2002: Institute of Semiconductor Physics, Johannes Kepler University, Linz, Austria (10 dní)
• 2001: Institute of Semiconductor Physics, Johannes Kepler University, Linz, Austria (2 krát 10 dní)
• 2000: Institute of Semiconductor Physics, Johannes Kepler University, Linz, Austria (10 dní)

Vybrané publikace

• FRANTA, Daniel, David NEČAS, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Ivan OHLÍDAL, Jiří STUCHLÍK a Dagmar CHVOSTOVA. Application of sum rule to the dispersion model of hydrogenated amorphous silicon. Thin Solid Films. Lausanne: Elsevier Science, roč. 539, Jul, s. 233-244. ISSN 0040-6090. doi:10.1016/j.tsf.2013.04.012. 2013. URL info
• FRANTA, Daniel, David NEČAS, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Ivan OHLÍDAL a Jiří STUCHLÍK. Advanced modeling for optical characterization of amorphous hydrogenated silicon films. Thin Solid Films. Lausanne: Elsevier Science, roč. 541, Aug, s. 12-16. ISSN 0040-6090. doi:10.1016/j.tsf.2013.04.129. 2013. URL info

8. 3. 2014