Characterization of CNx/SiOy Films Prepared by the Inductively Coupled RF Discharge

• Autoři: ELIÁŠ Marek; ZAJÍČKOVÁ Lenka; BURŠÍKOVÁ Vilma; JANČA Jan
• Rok publikování: 2000
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Czechoslovak Journal of Physics
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Popis: Characterization of CNx/SiOy thin films prepared in the inductively coupled radio-frequency discharge.

Související projekty

• Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
• Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev
• Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů
• Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
• Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy
• Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek