Informace o projektu
Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů
- Kód projektu
- ME 367
- Období řešení
- 7/2000 - 6/2002
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR
- Program KONTAKT (ME + MEB) (jen po projekty s počátkem řešení v roce 2010)
- Fakulta / Pracoviště MU
-
Přírodovědecká fakulta
- prof. RNDr. Jan Janča, DrSc.
Ve spolupráci s Institut fur anorganische materialien TU v Mnichově a SHM Šumperk bude prováděn vývoj a přenesení vyvinuté technologie do výrobního procesu pro nové supertvrdé nanokrystalické materiály typu TiN/AlN/SiN. Katedra fyzikální elektroniky se zaměří zejména na vývoj monitorování plazmochemických procesů probíhajících při depozici supertvdých vrstev. Bude využito zejména metod optické spektroskopie a metody sondové. Výsledkem spektrálních a sondových měření budou jednoduché detektory umož- ňující monitorování plazmochemického procesu tak, aby mechanické vlastnosti nanesených supertvrdých vrstev byly optimální. Na KFE PřF MU bude sestavena mikrovlnná aparatura typu ASTEX pro přípravu vrstev diamantového typu a vrstev typu BN. Bude rovněž vyvinuto další mikrovlnné depoziční zařízení umožňující generaci plazmatu s homogenním radiálním profilem. Bude vyvinut vysokofrekvenční generátor s induktivně buzeným plazmatem pro přípravu nanokompositních materiálů typu CN/SiO a materiálů typu CN/SiN.
Publikace
Počet publikací: 24
2003
-
Deposition of Hard carbon films and Its Diagnostics
Proceedings of the XIVth SAPP, rok: 2003
-
Hard carbon films: Deposition and diagnostics
Acta Physica Slovaca, rok: 2003, ročník: vol. 53, vydání: No. 5
-
Increase od Dissociation Degree in Afterglow Due to Admixtures
Proceedings of the XIVth SAPP, rok: 2003
-
Optical Diagnostics of ICP Dischare During Synthesis of Tungsten Carbide
Proceedings of the XIV Symposium on Application of Plasma Processes, rok: 2003
-
Study of high power pulsed microwave discharge
Microwave discharges: fundamentals and applications, rok: 2003
2002
-
Advanced methods for deposition of thin films: monitoring, properties, application
Rok: 2002, počet stran: 157 s.
-
Plasmachemical synthesis of tungsten carbide
Proc.12 Joint Seminar" Development of Material Science in Research and Education, rok: 2002
-
Plasmachemical synthesis of tungsten carbide for catalysis
CHISA 2002, rok: 2002
-
Simultaneous plasmachemical reduction of mixed tungsten and titanion precursors
Czech. Jourmal of Physics, rok: 2002, ročník: 2002, vydání: 52
2001
-
Deposition of DLC:Si(O) Films in Low Pressure Discharges
Proceedings of 13th Symposium on Application of Plasma Processes, rok: 2001