Thermal stability of SiOxCyHz films prepared by PECVD

• Název česky: termální stabilita SiOxCyHz vrstev připravených metodou PECVD
• Autoři: KUČEROVÁ Zuzana; BURŠÍKOVÁ Vilma; ZAJÍČKOVÁ Lenka; FRANCLOVÁ Jana; PEŘINA Vratislav
• Rok publikování: 2005
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Chemické listy
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: thermal stability; TDS; PECVD; FTIR; RBSW; ERDA
• Popis: Termální stabilta vrstev SiOxCyHz připravovaných metodou PECVD byla studována pomocí TDS, FTIR, RBS, ERDA and spectroskopické elipsometrie.

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek