Informace o publikaci

Hybrid PVD-PECVD sputtering deposition process - from properties of deposited films to process characteristics

Název česky Hybridní PVD-PECVD proces - od vlastností deponovaných vrstev k vlastnostem procesu
Autoři

ELIÁŠ Marek SOUČEK Pavel VAŠINA Petr

Rok publikování 2009
Druh Článek ve sborníku
Konference Book of Abstracts, Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova hybrid PVD-PECVD
Popis Hybridní PVD-PECVD proces - od vlastností deponovaných vrstev k vlastnostem procesu, sborník
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info