Investigation of silicon surface wettability after plasma treatment

• Autoři: SKÁCELOVÁ Dana; SŤAHEL Pavel; HANIČINEC Martin; ČERNÁK Mirko
• Rok publikování: 2010
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: HAKONE XII Contributed paper
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: Diffuse coplanar DBD, silicon, plasma treatment
• Popis: In this contribution the influence of the plasma on crystalline Si (100) surface was studied. Dielectric barrier discharge the so called Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge (DCSBD) to plasma modification was used. The silicon surface modification after plasma treatment was investigated by AFM and contact angle measurement. Different way to clean the surface is reflected on the surface wettability after plasma treatment and the ageing effect of treated surface was studied too.

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Tvorba nano-vrstev a nano-povlaků na textiliích s využitím plazmových povrchových úprav za atmosférického tlaku