Influence of hydrogen on behaviour of reactive magnetron sputtering

• Autoři: NEKVAPIL Jakub; VAŠINA Petr; SCHMIDTOVÁ Tereza
• Rok publikování: 2012
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Potential and Applications of Surface Nanotreatment of Polymers and Glass: Book of Extended Abstracts
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: reactive magnetron sputtering; hydrogen
• Popis: This work studies reactive magnetron sputtering in mixtures of the gases Ar, O2 and H2. The main part is formed by analyzes the hysteresis of the deposition process for the mixtures Ar+O2, Ar+H2 separately and comparison of the results with behaviour of the system for the Ar+O2+H2 mixture. Behaviour of the system is studied for the case of deposition titanium oxide layer.

Související projekty

• CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
• Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev