Nucleation and initial growth of atomic layer deposited titanium oxide determined by spectroscopic ellipsometry and the effect of pretreatment by surface barrier discharge

• Autoři: CAMERON David Campbell; KRUMPOLEC Richard; IVANOVA Tatiana; HOMOLA Tomáš; ČERNÁK Mirko
• Rok publikování: 2015
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Applied Surface Science
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• www: http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S016943321500731X
• Doi: http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2015.03.135
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: Atomic layer deposition; Spectroscopic ellipsometry; Quantum confinement effects; Nucleation density
• Popis: This paper reports on the use of spectroscopic ellipsometry to characterise the initial nucleation stage of the atomic layer deposition of the anatase phase of titanium dioxide on silicon substrates.

Související projekty

• CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
• Zaměstnáním čerstvých absolventů doktorského studia k vědecké excelenci
• Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy