Characterisation of Silicon Oxide Thin Films Deposited by Plasma Enhanced CVD from Octamethylcyclotetrasiloxane/Oxygen Feeds

• Název česky: Charakterizace tenkých vrstev oxidu křemíku připravených metodou PECVD z oktametylcyklotetrasiloxanu ve směsi s kyslíkem
• Autoři: ZAJÍČKOVÁ Lenka; JANČA Jan; PERINA Vratislav
• Rok publikování: 1999
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Thin Solid Films
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: PECVD; OMTS
• Popis: Characterisation of Silicon Oxide Thin Films Deposited by Plasma Enhanced CVD from Octamethylcyclotetrasiloxane/Oxygen Feeds

Související projekty

• Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek