Informace o publikaci
On Formation of Very Thin SiO2/a-Si:H/c-Si Structures by Plasma Immersion Ion Implantation and Dielectric Barrier Discharge
| Autoři | |
|---|---|
| Rok publikování | 2005 |
| Druh | Článek ve sborníku |
| Konference | Proc. SREN 2005 |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
| Popis | On Formation of Very Thin SiO2/a-Si:H/c-Si Structures by Plasma Immersion Ion Implantation and Dielectric Barrier Discharge |