Informace o publikaci
Photonic band-gap masks to enhance resolution and depth of focus
| Název česky | Zlepšení rozlišení a hloubky ostrosti u fotolitografických masek pomocí fotonického zakázaného pásu |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2007 |
| Druh | Článek v odborném periodiku |
| Časopis / Zdroj | Proceedings of SPIE |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Optika, masery a lasery |
| Klíčová slova | lithographic mask; photonic band-gap |
| Popis | Zlepšení rozlišení a hloubky ostrosti u fotolitografických masek pomocí fotonického zakázaného pásu |