doc. Mgr. Pavel Souček, Ph.D.
docent – Depozice tenkých vrstev a nanostruktur
kancelář: pav. 06/01009
Kotlářská 267/2
611 37 Brno
| telefon: | 549 49 8769 |
|---|---|
| e‑mail: |
| sociální a akademické sítě: |
|---|
Počet publikací: 200
2024
-
Enhancement of ionized metal flux fraction without compromising deposition rate in industrial magnetron sputtering
Surface and Coatings Technology, rok: 2024, ročník: 489, vydání: August 2024, DOI
-
On the influence of strong- and weak-nitride forming elements on the preparation of refractory metal based high entropy nitrides by magnetron sputtering
Rok: 2024, druh: Konferenční abstrakty
-
Prototyp optického prvku č. 2 s povrchovou úpravou
Rok: 2024
-
Selective Cu electroplating enabled by surface patterning and enhanced conductivity of carbon fiber reinforced polymers upon air plasma etching
Journal of Alloys and Compounds, rok: 2024, ročník: 992, vydání: July 2024, DOI
-
Synthesis and characterization of ceramic high entropy carbide thin films from the Cr-Hf-Mo-Ta-W refractory metal system
Surface and Coatings Technology, rok: 2024, ročník: 485, vydání: June 2024, DOI
-
Synthesis and Characterization of High Entropy Ceramic Coatings from Cr-Hf-Mo-Ta-W Refractory Metal System
Rok: 2024, druh: Konferenční abstrakty
2023
-
Describing the multipulse HiPIMS deposition
Rok: 2023, druh: Vyžádané přednášky
-
Dynamic Impact Resistance and Scratch Adhesion of AlCrN Coatings Sputtered Using Cathodic Arc Glow Discharge
Coatings, rok: 2023, ročník: 13, vydání: 3, DOI
-
Industrially deposited hard and damage resistant W-B-C coatings
Surface and Coatings Technology, rok: 2023, ročník: 454, vydání: February, DOI
-
Multilayer thin films of aluminum oxide and tantalum oxide deposited by pulsed direct current magnetron sputtering for dielectric applications
Vacuum, rok: 2023, ročník: 210, vydání: April, DOI