prof. RNDr. Ivan Ohlídal, DrSc.
vedoucí pracoviště – Optika tenkých vrstev a povrchů pevných látek
kancelář: pav. 06/01031
Kotlářská 267/2
611 37 Brno
| telefon: | 549 49 6244 |
|---|---|
| e‑mail: |
| sociální a akademické sítě: |
|---|
Počet publikací: 204
2014
-
Utilization of the sum rule for construction of advanced dispersion model of crystalline silicon containing interstitial oxygen
Thin Solid Films, rok: 2014, ročník: 571, vydání: november, DOI
2013
-
Advanced modeling for optical characterization of amorphous hydrogenated silicon films
Thin Solid Films, rok: 2013, ročník: 541, vydání: Aug, DOI
-
Application of sum rule to the dispersion model of hydrogenated amorphous silicon
Thin Solid Films, rok: 2013, ročník: 539, vydání: Jul, DOI
-
Ellipsometric characterization of inhomogeneous non-stoichiometric silicon nitride films
Surface and Interface Analysis, rok: 2013, ročník: 45, vydání: 7, DOI
2011
-
Anisotropy-enhanced depolarization on transparent film/substrate system
Thin Solid Films, rok: 2011, ročník: 519, vydání: 9, DOI
-
Ellipsometric characterisation of thin films non-uniform in thickness
Thin Solid Films, rok: 2011, ročník: 519, vydání: 9, DOI
-
Measurement of the thickness distribution and optical constants of non-uniform thin films
Measurement Science and Technology, rok: 2011, ročník: 22, vydání: 8, DOI
-
Optical characterisation of SiOxCyHz thin films non-uniform in thickness using spectroscopic ellipsometry, spectroscopic reflectometry and spectroscopic imaging reflectometry
Thin Solid Films, rok: 2011, ročník: 519, vydání: 9, DOI
-
Optical characterization of HfO2 thin films
Thin Solid Films, rok: 2011, ročník: 519, vydání: 18, DOI
-
Variable-angle spectroscopic ellipsometry of considerably non-uniform thin films
Journal of Optics, rok: 2011, ročník: 13, vydání: 8, DOI