Informace o publikaci
Properties of Silicon Containing Thin Films Deposited by PECVD
| Autoři | |
|---|---|
| Rok publikování | 1998 |
| Druh | Článek ve sborníku |
| Konference | International Workshop on Diagnostics of Solid State Surfaces and Interfaces |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
| Klíčová slova | plasma enhanced CVD |
| Popis | Properties of Silicon Containing Thin Films Deposited by PECVD |