Plasmachemical Deposition of Thin Films

• Autoři: JANČA Jan; ZAJÍČKOVÁ Lenka
• Rok publikování: 2000
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: 4th Czech-Russian Seminar on Electrophysical and Thermophysical Processes in Low-Temperature Plasma
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: plasma chemical deposition; Thin Films. hard films; plasma polymers; diamond-like
• Popis: PECVD deposition of thin films in RF and MW plasma. Hard diamond-like carbon thin films. Transparent SiOx thin films. Polycrystalline diamond.

Související projekty

• Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
• Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev
• Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů
• Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
• Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy
• Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek