Structural changes of plasma deposited SiOxCyHz thin films attained by thermal annealing

• Název česky: Strukturální změny vrstev SiOxCyHz připravených v plazmatu indukované zahříváním
• Autoři: FRANCLOVÁ Jana; KUČEROVÁ Zuzana; BURŠÍKOVÁ Vilma; ZAJÍČKOVÁ Lenka; PEŘINA Vratislav
• Rok publikování: 2004
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Czech. J. Phys.
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: Deposited films; plasma enhanced CVD; HMDSO; FTIR; RBS
• Popis: Strukturální změny vrstev SiOxCyHz připravených v plazmatu indukované zahříváním

Související projekty

• Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
• Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek